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Photo Mask Inspection & Cleaner
  • Fab내에서 Photo Mask를 보관 & 노광 장비에서 사용시 부착되는 이물을 제거 및 검사 위해 사용
  • 기존의 화학 약품을 이용한 세정(WET) 기술 대비 플라즈마를 이용한 기술로, 화학 약품 미사용으로 친환경적임
  • 자동 이송 정치를 적용하여 작업자에 의한 페리클 파손 방지
  • 세정 시간 단축으로 노광 설비 생산성 향상에 기여
  • 화학약품 미사용 및 페리클을 제거하지 않고 수리 가능하여 비용 절감 가능
  • 플라즈마 + N2 가압 세정 기능 적용하여 WET 설비 대비 세정 능력 보완
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