Reticle Exchanger, Reticle Cleaner

Fab내에서 Photo Mask를 보관 & 노광 장비에서 사용시 부착되는 이물을 제거 및 검사 위해 사용
기존의 화학 약품을 이용한 세정(WET) 기술 대비 플라즈마를 이용한 기술로, 화학 약품 미사용으로 친환경적임
자동 이송 정치를 적용하여 작업자에 의한 페리클 파손 방지
세정 시간 단축으로 노광 설비 생산성 향상에 기여
화학약품 미사용 및 페리클을 제거하지 않고 수리 가능하여 비용 절감 가능
플라즈마 + N2 가압 세정 기능 적용하여 WET 설비 대비 세정 능력 보완
Nikon Reticle Case에서 ASML(Nikon) Reticle Pod로 교환기능